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簡(jiǎn)要描述:日本理學(xué)連續(xù)波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜儀ZSX Primus 400專為處理非常大或重的樣品而設(shè)計(jì),非常適合分析濺射靶材、磁盤,或用于多層薄膜計(jì)量或大型樣品的元素分析。
產(chǎn)品分類
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品牌 | Rigaku/理學(xué) | 行業(yè)專用類型 | 地質(zhì)巖礦 |
---|---|---|---|
價(jià)格區(qū)間 | 面議 | 儀器種類 | 臺(tái)式/落地式 |
應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,石油,地礦,冶金,汽車 |
日本理學(xué)連續(xù)波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜儀ZSX Primus 400產(chǎn)品描述:
Rigaku ZSX Primus 400 連續(xù)波長(zhǎng)色散 X 射線熒光 (WDXRF) 光譜儀專為處理非常大或重的樣品而設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)可接受直徑最大為 400 毫米、厚度為 50 毫米和質(zhì)量為 30 千克的樣品,非常適合分析濺射靶材、磁盤,或用于多層薄膜計(jì)量或大型樣品的元素分析。
優(yōu)點(diǎn):
帶有定制樣品適配器系統(tǒng)的 XRF,適應(yīng)特定樣品分析需求的多功能性,可使用可選適配器插件適應(yīng)各種樣品尺寸和形狀。憑借可變測(cè)量點(diǎn)(直徑 30 毫米至 0.5 毫米,具有 5 步自動(dòng)選擇)和具有多點(diǎn)測(cè)量的映射功能以檢查樣品均勻性。
具有可用相機(jī)和特殊照明的 XRF,可選的實(shí)時(shí)攝像頭允許在軟件中查看分析區(qū)域。
仍保留了傳統(tǒng)儀器的所有分析能力。
安全性:
采用上照射設(shè)計(jì),樣品室可簡(jiǎn)單移出,再不用擔(dān)心污染光路,清理麻煩和增加清理時(shí)間等問(wèn)題。
應(yīng)用領(lǐng)域:
固體、液體、粉末、合金和薄膜的元素分析。
濺射靶材組成。
隔離膜:SiO2、BPSG、PSG、AsSG、Si?N?、SiOF、SiON等。
高 k 和鐵電介質(zhì)薄膜:PZT、BST、SBT、Ta2O5、HfSiOx。
金屬薄膜:Al-Cu-Si、W、TiW、Co、TiN、TaN、Ta-Al、Ir、Pt、Ru、Au、Ni等。
電極膜:摻雜多晶硅(摻雜劑:B、N、O、P、As)、非晶硅、WSix、Pt等。
其他摻雜薄膜(As、P)、困惰性氣體(Ne、Ar、Kr等)、C(DLC)。
鐵電薄膜、FRAM、MRAM、GMR、TMR;PCM、GST、GeTe。
焊料凸點(diǎn)成分:SnAg、SnAgCuNi。
MEMS:ZnO、AlN、PZT的厚度和成分。
SAW器件工藝:AlN、ZnO、ZnS、SiO 2(壓電薄膜)的厚度和成分;Al、AlCu、AlSc、AlTi(電極膜)。
日本理學(xué)連續(xù)波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜儀ZSX Primus 400技術(shù)參數(shù):
大樣本分析:最大 400 毫米(直徑),最大 50 毫米(厚度),高達(dá) 30 千克(質(zhì)量)
樣品適配器系統(tǒng),適用于各種樣本量
測(cè)量點(diǎn):30 毫米至 0.5 毫米直徑,5步自動(dòng)選擇
映射能力,允許多點(diǎn)測(cè)量
樣品視圖相機(jī)(可選)
分析范圍:Be - U
元素范圍:ppm 至 %
厚度范圍:sub ? 至 mm
衍射干擾抑制(可選):?jiǎn)尉бr底的準(zhǔn)確結(jié)果
符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn):SEMI、CE標(biāo)志
占地面積小,以前型號(hào)的 50% 占地面積
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